名称/化学式：三氟化氮/NF3
包装规格：44L、17L
纯度(%)及杂质(ppm)：99.99%
产品详情：
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气体标识
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名称：nitrogen trifluoride 分子式：NF3
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气体物化特性
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分子量
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熔点
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沸点
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临界温度
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临界压力
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液体密度
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气体密度
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CAS号
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71.01
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-206.8℃(1atm)
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-129℃(1atm)
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-39.3℃
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44.02atm(4.46MPa)
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1554kg/m3(1atm沸点时)
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2.95kg/m3(1atm 21℃）
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7783-54-2
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包装 ( Cylinder（47L）、Bundle(16×47L)、Bundle(25×47L)、 Y-Cylinder(470L)、 ISO等)
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钢瓶容积
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钢瓶型号
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阀门
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钢瓶压力
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气体质量
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危规号
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UN编号
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包装分类
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包装标志
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47L、43.3L、40L、8L
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DOT-3AA、GB5099
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CGA330、CGA640
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9.0-13.0MPa
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22kg、20kg、3.4kg
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23016
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2451
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Ⅱ
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6
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储存及运输
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三氟化氮气瓶应储存于阴凉、通风仓库内。三氟化氮气瓶应远离火种、热源、防止阳光直射，与还原剂、易燃或可燃物等分开存放。
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三氟化氮气瓶在搬运时要轻装、轻卸，防止钢瓶及附件破损。
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三氟化氮气瓶的运输按危险品运输。运输时用气瓶固定架将三氟化氮气瓶固定好，用汽车公路运输或用轮船集装箱运输。
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泄漏应急处理
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如遇有三氟化氮气体泄露，工作人员要马上撤离泄漏污染区，并尽可能采取措施阻止三氟化氮气体的进一步泄露。如有工作人员中毒，应立即送往医院救治。
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泄露现场要尽快处理，处理泄露现场的工作人员必须配戴必要的防毒面具，最好是自给正压式呼吸器。泄露现场经检测无危害气体后方可进入工作人员，泄露容器必须经仔细检查、维修或妥善处理好后方可继续使用。
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三氟化氮气体产品质量标准（QJ58-2007）
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杂质
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NF3≥99.995% Vol.%
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NF3≥99.99% Vol.%
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NF3≥99.98% Vol.%
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NF3≥99.9% Vol.%
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CF4
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≤20 Vol.ppm
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≤40 Vol.ppm
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≤100 Vol.ppm
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≤500 Vol.ppm
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N2
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≤5 Vol.ppm
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≤5 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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≤50 Vol.ppm
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O2+Ar
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≤3 Vol.ppm
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≤5 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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≤50 Vol.ppm
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CO2
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≤1 Vol.ppm
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≤5 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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H2O
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≤1 Vol.ppm
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≤1 Vol.ppm
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≤1 Vol.ppm
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≤1 Vol.ppm
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酸份（以HF计）
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≤1 Vol.ppm
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≤1 Vol.ppm
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≤1 Vol.ppm
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≤1 Vol.ppm
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SF6
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≤1 Vol.ppm
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≤2 Vol.ppm
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≤2 Vol.ppm
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≤25 Vol.ppm
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N2O
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≤1 Vol.ppm
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≤5 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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CO
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≤0.5 Vol.ppm
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≤5 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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≤10 Vol.ppm
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三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。
主要用途：用作氟化氢-氟化气高能化学激光器的氟源,在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分(约25%)可以以激光辐射释放出,所 HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体,对硅和氮化硅蚀刻,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性,而且对表面无污染,尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中,三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物表面不留任何残留物,同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术,它的需求量将日益增加。
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